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深圳市诺林电子科技有限公司

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凹凸曝光机容易累积缺陷的缺点

作者:诺林     浏览:30     发表时间:2017-06-05 09:30:58 关键字:凹凸曝光机 来源:原创

凹凸曝光机的缺点:光刻胶污染掩膜板;掩膜板的磨损,容易损坏,寿命很低(只能使用5~25次);容易累积缺陷;上个世纪七十年代的工业水准,已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了,国产光刻机均为接触式曝光,国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化.

新一代曝光机选用进口核心光源系统,新款的【曝光机】选用220V电源,即插即用,无需配置空调水塔,配置了精密的双非球面石英透镜,使光的平行半角小于2°(普通水冷机大于45°),线路解晰度可达50UM/UM(普通机为100UM/UM)以下;没有红外线热辐射,避免了菲林胀缩,保证影像转移的品质.由于几乎没有光能衰减,所以增强了制程的稳定性,提升产品的合格率,且不产生污性臭氧,绿色环保.是目前PCB生产中所用普通汞灯曝光机理想的升级换代产品.应用LED光源,曝光成本将大幅下降.

凹凸曝光机的缺点:光刻胶污染掩膜板;掩膜板的磨损,容易损坏,寿命很低(只能使用5~25次);容易累积缺陷;上个世纪七十年代的工业水准,已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了,国产光刻机均为接触式曝光,国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化.

b.接近式曝光:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙,Gap大约为0~200μm.可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤,使掩膜和光刻胶基底能耐久使用;掩模寿命长(可提高10倍以上),图形缺陷少.接近式在现代光刻工艺中应用广泛.

c.投影式曝光:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光.一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作.优点:提高了分辨率;掩膜板的制作更加容易;掩膜板上的缺陷影响减小.

凹凸曝光机将微电子技术与机械工程融合到一起的一种工业技术,它的操作范围在微米范围内.比它更小的,在纳米范围的类似的技术被称为纳机电系统.是微米大小的机械系统,其中也包括不同形状的三维平板印刷产生的系统.这些系统的大小一般在微米到毫米之间.在这个大小范围中日常的物理经验往往不适用.比如由于微机电系统的面积对体积比比一般日常生活中的机械系统要大得多,其表面现象如静电、润湿等比体积现象如惯性或热容量等要重要.它们一般是由类似于生产半导体的技术如表面微加工、体型微加工等技术制造的.其中包括更改的硅加工方法如压延、电镀、湿蚀刻、干蚀刻、电火花加工等等.主要包括微型机构、微型传感器、微型执行器和相应的处理电路等几部分,目前微机电系统加工技术又被广泛应用于微流控芯片与合成生物学等领域,从而进行生物化学等实验室技术流程的芯片集成化.

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