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微机电系统曝光机的特点

作者:诺林     浏览:1134     发表时间:2017-06-09 08:24:50 关键字:微机电系统曝光机 来源:原创

微机电系统曝光机主要用于光刻胶曝光.本系统由光源部份、玻璃搬送架、菲林基板自动浮动装置、玻璃真空吸附平台、玻璃自动推定位装置、平台升降装置、光源快门控制系统等几部分组成,玻璃由搬送架进入曝光区域后对位、吸真空、曝光、卸玻璃等动作全部自动完成.

微机电系统曝光机主要用于光刻胶曝光.本系统由光源部份、玻璃搬送架、菲林基板自动浮动装置、玻璃真空吸附平台、玻璃自动推定位装置、平台升降装置、光源快门控制系统等几部分组成,玻璃由搬送架进入曝光区域后对位、吸真空、曝光、卸玻璃等动作全部自动完成. 

【微机电系统曝光机】的特点是:

1)微型化:MEMS器件体积小、重量轻、耗能低、惯性小、谐振频率高、响应时间短.

2)以硅为主要材料,机械电器性能优良:硅的强度、硬度和杨氏模量与铁相当,密度类似铝,热传导率接近钼和钨.

3)批量生产:用硅微加工工艺在一片硅片上可同时制造成百上千个微型机电装置或完整的MEMS.批量生产可大大降低生产成本.

4)集成化:可以把不同功能、不同敏感方向或致动方向的多个传感器或执行器集成于一体,或形成微传感器阵列、微执行器阵列,甚至把多种功能的器件集成在一起,形成复杂的微系统.微传感器、微执行器和微电子器件的集成可制造出可靠性、稳定性很高的MEMS.

5)多学科交叉:MEMS涉及电子、机械、材料、制造、信息与自动控制、物理、化学和生物等多种学科,并集约了当今科学技术发展的许多尖端成果.

自动型曝光机将微电子技术与机械工程融合到一起的一种工业技术,它的操作范围在微米范围内.比它更小的,在纳米范围的类似的技术被称为纳机电系统.是微米大小的机械系统,其中也包括不同形状的三维平板印刷产生的系统.这些系统的大小一般在微米到毫米之间.在这个大小范围中日常的物理经验往往不适用.比如由于微机电系统的面积对体积比比一般日常生活中的机械系统要大得多,其表面现象如静电、润湿等比体积现象如惯性或热容量等要重要.它们一般是由类似于生产半导体的技术如表面微加工、体型微加工等技术制造的.其中包括更改的硅加工方法如压延、电镀、湿蚀刻、干蚀刻、电火花加工等等.主要包括微型机构、微型传感器、微型执行器和相应的处理电路等几部分,目前微机电系统加工技术又被广泛应用于微流控芯片与合成生物学等领域,从而进行生物化学等实验室技术流程的芯片集成化.


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