【冷光源LED曝光机】是指通过开启灯光发出 UVA波长的紫外线,将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备.

用途:

更广范围（UV,DUV,NUV）的紫外光波长选择,出射光强范围: 8mW/cm2~40mW/cm2支持恒定光强或恒定功率模式,广泛应用于半导体,微电子,生物器件和纳米科技领.

常见【冷光源LED曝光机】举例;MYCRO美国制造的恩科优（N&Q）紫外曝光系统,适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光.NXQ400-6系统成功地应用于半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用.

世界再嘈杂,工匠人的内心绝对是安静,安定的.只有心念纯粹的人,才能耐得住现世的繁华与浮躁.十年时光荏苒,诺林电子的工程师们历经风雨,去糙求真,把整个身心都全情投入产品研发中去,世界再嘈杂,也因此纯粹,专注,极致而变得安静.

过去常说没有创造就没有创新.产品创新是非常艰辛的一种历程.创新不是嘴上说,而是需要大量的时间去沉淀去蛰伏出来的.在诺林的车间,工程师们要充分理解材料,充分掌握技艺,能够完全把控设备的实际生产的操作性.有了这样的水平,加上永不言败,精益求精的精神,通过各种反馈不断完善,最终才能最大限度地发挥设备的使用价值,将产品做到极致.

新一代高精度CCD自动对位【冷光源LED曝光机】,选用进口核心光源及自主研发系统,从2010年初次研发UVLED光源曝光机,到2015年冬的订单大收获,我们一直坚持梦想,我们做到了！新一代高精度CCD自动对位冷光源LED曝光机选用220V电源,即插即用,线路解晰度可达50UM/50UM；没有红外线热辐射,避免了菲林胀缩,保证影像转移的品质.新型光源由于几乎没有光能衰减,更增强了制程的稳定性,大大提升产品的合格率.

超高精度,超高效率,单片板生产时间最快约为12-18秒,曝光精度可完全替代传统平行光,大大提升产品的价值,市场反响热烈,备受高端客户的青睐！现公司推出三种机型满足您的需求;内层线路机型,外层线路机型,防焊机型.同时针对传统半自动机型推出改机升级服务.

十年风雨,感谢一直彼此相携的伙伴,感谢一直信任我们的您.我们的成长证明,一个愿意沉淀下来的“慢”企业,不去投机取巧,不去曲意逢迎,用产品说话,终将被时间洗礼绽放.我们相信,那些回归常识,尊重奋斗的人,亦终将洞见时代的机遇.

未来,让我们携手共进,开启下一个创新十年.

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